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晶片腐蚀清先机


项目

基本参数

设备名称

晶片腐蚀清洗机、晶片清洗机

设备用途

主要适用于2-4英寸LED晶片的清洗处理;

操作模式

 手动或半自动控制模式;

设备构成

设备可编程控制、防腐塑料及氟材料、管路部分、海外标准件等构成;

设备参数

◎ 全面防腐管理措施,苛刻的工艺保证了设备的密封性和安全性;

◎ 采用篮架批次手动清洗,氮气鼓泡,喷淋、溢流、;

◎ 清洗效果好,保证硅片表面无水痕,液位传感器监测;

◎ 主要用于日本欧姆龙等施耐德品牌电器;

◎ 清洗工件:(2-4英寸晶片);

◎ 根据客户定制需求不同,定制的湿法清洗流程方案;


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