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湿法腐蚀台


         匀胶机、显影机                          湿法腐蚀台


三种不同安装结构方式：

1：Table TOP型(放置实验台面上)

2：OND型-带远程控制- (手套箱封闭环境)

3：IND型-带远程控制-(湿法工作站嵌入式)


   
　项目 　基本参数
　设备名称 　湿法工作台,匀胶机，显影机，湿法腐蚀台，湿法清洗台，清洗设备
　设备用途 　主要用于硅晶片、锗晶片等局部清洗、吹扫和无尘操作、旋干涂胶系统；
　操作模式 　Class超效过滤器+液晶触摸控制屏+风量控制；
　设备构成 　设备由电气控制系统、洁净系统、防腐塑料及氟材料、管路部分、海外标准件等构成；
　设备参数
　◎ 全面防腐管理措施，苛刻的焊道工艺保证了设备的密封性和安全性； 
　◎ class超效过滤器组件，优化局部环境清洗过程减少污染；
　◎ 风量控制系统气流均衡，至以清洗过程无污染溢出； 

　◎ 配置PTFE/PFA./PVDF等超纯部件及传感器件；

    ◎ 可选配废液收系统、控制阀件等高端电子产品；

    ◎ 匀胶机可选配自动滴胶功能或自动去边功能 (配置可根据客户选定)；

    ◎ 适合清洗工件尺寸：2-4inch、2-6inch、2-8inch等工件产品； 
　◎ 根据客户定制需求不同，定制的湿法清洗方案；

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